
PL-SR步进式纳米压印系统
Step & Repeat NIL System
PL-SR是一款通用的重复步进纳米压印光刻系统,其具有高效压印、模板拼接功能的板对板式纳米压印系统。其采用独特的硬质衬底复合模板(Hybird Mold)技术,可最大程度消除颗粒以及缺陷;
- 最大拼接尺寸300mm(12in.)
- 最小模板尺寸20mmx20mm
- 支持硅、石英、蓝宝石、氧化硅等衬底
- 支持喷墨打印、旋涂方式步进式压印
- 紫外固化光源:UVLED面光源(365nm,光强>500mW/cm2)
- 设备洁净度:百级及以上
- 拼接精度:<1um
系统简介
设备规格
结果展示
系统简介
PL-SR是一种通用的重复步进纳米压印光刻系统,其具有高效、高精度的压印功能,此外还具备拼接复杂结构的性能。PL-SR
采用高精度的喷墨打印式涂胶方案,通过高精度控制喷墨过程中的胶滴大小来精确分布不同区域的压印胶量以满足在非周期结构压印过程中压印胶填充量不同的诉求,与此同时还可以辅助高精度的对准功能,可实现<200nm对准精度要求的纳米压印工艺。此外,PL-SR重复步进压印系统还可满足模板拼接的需求,最小可实现20mmx20mm的压印模板均匀的拼接,最终可实现300mm(12in)晶圆级超大面积的模板。
PL-SR 还具备高端制程半导体工艺制造能力,因其采用喷墨打印式涂胶方案,使得其在变周期结构的纳米压印胶量控制达到最优化,同时兼顾不同结构空隙填充材料需求量不同而最终影响压印残余层控制问题。其具备极高的对准精度将<50nm,目前针对该场景应用的高配置PL-SR款纳米压印设备正在积极优化中,尽情期待……
设备规格
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