PL-R 是一款高精度辊压式纳米压印系统，该系统采用高精度高压力辊对衬底样品进行贴合压印，保证整个压印过程的压力稳定性。同时该系统匹配了高精度双面对准系统，对准精度＜5μm。

PL-R  主要针对AR表面浮雕光栅、DOE光学元器件等，

1. 最大压印尺寸300mm(12in.)
2. 最小分辨率＜50nm
3. 支持硅、石英、蓝宝石、氧化硅等衬底
4. 双面对准精度：＜5μm
5. 紫外固化光源：UVLED面光源(365nm，光强>500mW/cm2)
6. 设备洁净度：百级及以上