PL-T 桌面式纳米压印系统

PL-T Desktop NIL System

PL-T款纳米压印机主要针对大学和研究实验室设计的桌面多功能系统，它适用于所有形式的压印：热固化、光固化以及热塑化，最大压印尺寸为4英寸。该系统采用我们核心的专利技术，可将整片压印均匀性控制＜1%；同样我们的专利技术可以实现<5nm超高分辨率的图案尺寸复制及转移。该系统具备重量轻、操作方便、性能高等优点，深受广大用户的青睐。

  1. 最大压印尺寸100mm(4in.)
  2. 最小分辨率尺寸5nm
  3. 支持硅、石英、蓝宝石、氧化硅等衬底
  4. 支持紫外、加热固化工艺
  5. 紫外固化光源：UVLED面光源(365nm，光强>500mW/cm2)
  6. 设备洁净度：千级以上
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PL-S 研发型纳米压印系统

PL-S R&D NIL System

PL-S 是一款通用的纳米压印光刻系统，其具有极高定制化的纳米压印系统，其具备定制板压、气压、辊压等不同功能，还包括紫外、加热固化方式，同时还可增加高精度对准功能。

  1. 最大压印尺寸300mm(12in.)
  2. 最小分辨率尺寸＜5nm
  3. 支持硅、石英、蓝宝石、氧化硅等衬底
  4. 支持紫外、加热固化工艺
  5. 紫外固化光源：UVLED面光源(365nm，光强>500mW/cm2)
  6. 设备洁净度：百级及以上
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